山西合成院产品一览

在追求**平坦度的精密制造领域，每一纳米都至关重要，这对化学机械抛光（CMP）的核心耗材——抛光垫提出了更高要求。

山西合成院始终专注于CMP抛光垫的研发与生产，致力于为半导体、精密光学及各类高端表面处理工艺的不同阶段，提供更专业、更匹配的平坦化解决方案。

聚氨酯系列抛光垫是一种坚硬的微孔聚氮酯抛光垫，按填充的研磨材料不同，分为氧化铈、氧化锆和氧化铝，不含磨料系列以及其他研磨料系列。它可广泛用于精密光学元件、平板玻璃、LCDLED基板玻璃、半导体晶圆、硬盘、晶体、陶瓷、蓝宝石、碳化硅、金属及合全等材料的高速抛光。

氧化铈系列：S13、S66、S70、S77、S88

氧化锆系列：G26、G35、G46

氧化铝系列：L96

无填充系列：W25、W57、W87、W95

其他填充系列：T100、T90、C100

无纺布具多孔性，透气性佳，具有优异的弹性和耐磨性，可用于半导体、光学元件、晶体，蓝宝石衬底片及金属和玻璃材料的终道抛光，也可用来抛光特殊材质，诸如硅、锗、硒脂锌、砷化镓、合金钢、陶瓷等。

应用高强度的优质织物，让其拥有很好的耐久性，极大的缩短了工作时间，且具有较好的密度性，用其抛出来的产品光洁度好，性价比高。主要用于半导体，金属，蓝宝石衬底片和碳化硅等镜片的最终抛光，用于增加镜片的光洁度及平整度。  

精密制造，始于每一寸平坦的表面。山西院的新品抛光垫已准备就绪，助力您的产线实现更高良率、更优成本控制。

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